FABRICAÇÃO DE UM REATOR A PLASMA PARA DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS BASEADO NA TÉCNICA MAGNETRON SPUTTERING

Resumo

Este trabalho aborda o desenvolvimento e a fabricação de um reator de plasma para deposição de filmes finos usando a técnica de magnetron sputtering. Esta técnica permite a deposição controlada de materiais em superfícies, promovendo a formação de filmes com propriedades específicas. É amplamente utilizada em aplicações industriais e laboratoriais devido à sua eficiência, controle e especificidade na deposição de camadas finas de materiais como metais, cerâmicas e semicondutores. Este equipamento dará suporte a pesquisas na área de engenharia de materiais. O presente trabalho descreve o desenvolvimento de um reator e do sistema magnetron, incluindo o projeto mecânico e a fabricação de componentes. Testes na câmara de vácuo mostraram que o sistema operou de forma limpa, sem vazamentos significativos, permitindo atingir pressões tão baixas quanto 0,8 bar.